光学薄膜（减反射膜）

                            减反射膜

      减反射膜又称增透膜，它的主要功能是减少或消除透镜、棱镜、平面镜等学表面的反射光，从而增加这些元件的透光量，减少或消除系统的杂散光。

                             减反射膜原理

     反射膜是以光的波动性和干涉现象为基础的。二个振幅相同，波长相同的光波叠加，那么光波的振幅增强；如果二个光波原由相同，波程相差，如果这二个光波叠加，那么互相抵消了。减反射膜就是利用了这个原理，在镜片的表面镀上减反射膜，使得膜层前后表面产生的反射光互相干扰，从而抵消了反射光，达到减反射的效果。

                             减反射膜应用

    减反射膜的实际应用非常广泛，常见的是镜片及太阳能电池-通过制备减反射膜来提高光伏组件的功率瓦值。

    早期的光伏电池采用二氧化硅和二氧化钛膜作为减反射层。

目前晶体硅光伏电池使用的减反射膜材料是氮化硅，采用等离子增强化学气相淀积技术，使氨气和硅烷离子化，沉积在硅片的表面，具有较高的折射率，能起到较好的减反射效果。

                           减反射膜制备方法

    溶胶－凝胶法（Sol－gel）就是以含高化学活性组分的化合物为前驱体，在液相下将这些原料均匀混合，并进行水解、缩合化学反应，在溶液中形成稳定的透明溶胶体系，通过提拉、涂覆等工艺过程在基体上得到减反射膜。

化学气相沉积法（CVD）是把含有构成薄膜元素的气体供给衬底，利用加热、等离子体及紫外光等能源，在衬底上发生化学反应沉积薄膜，可以制备SiN、ZnS、SiO2、SiC 等太阳能电池减反射膜。

    磁控溅射法是在高真空充入适量的氩气，在阴极（柱状靶或平面靶）和阳极镀膜室壁之间施加直流电压，在镀膜室内产生磁控型异常辉光发电，使氩气电离。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜。磁控溅射法常用制备氧化钽、氮化硅薄膜